在激光二极管端面连续抽运Nd:YAG激光器中，采用由射频磁控溅射技术和热处理制备的纳米Si镶嵌SiNx(nc-Si /SiNx)薄膜作为可饱和吸收体，实现了946 nm激光的被动调Q运转，同时采用三硼酸锂(LBO)晶体对946 nm光脉冲进行腔内倍频，获得了473 nm蓝光脉冲输出。当抽运功率为8.5 W时，输出的蓝光脉冲平均功率为120 mW，脉冲重复频率为23.8 kHz，脉冲宽度为45 ns，峰值功率为112 W，光光转换效率为1.41%。实验还研究了蓝光脉冲平均功率、脉冲重复频率和脉冲宽度随抽运功率的变化。理论分析认为，nc-Si/SiNx薄膜对946 nm激光的双光子饱和吸收导致了Nd:YAG 946 nm激光器的被动调Q运转。

薄膜表面粗糙度是表征薄膜质量的重要指标,为了探求环境气压对脉冲激光烧蚀沉积纳米Si薄膜表面粗糙度的影响,采用XeCl脉冲准分子激光器,分别在惰性气体氦气和氩气的不同气压环境下烧蚀沉积了纳米Si薄膜,用Tencor Instruments Alpha-Step 200台阶仪对相应薄膜的表面粗糙度进行了测量。结果表明,薄膜表面粗糙度开始随着气压的增大而逐渐增加,在达到一最大值后便随着气压的增大而减小。由不同气体环境下的结果比较可以看出,充氩气所得Si薄膜表面粗糙度比充氦气的小,最大粗糙度强烈地依赖于气体种类。对于原子质量较大的氩气而言,其最大粗糙度仅比低气压时高出11%,而对于原子质量较小的氦气来说,其最大粗糙度比低气压时高出314%。