1 中国科学院上海光学精密机械研究所微纳光电子功能材料实验室, 上海201800
2 中国科学院大学材料与光电研究中心, 北京100049
3 华中科技大学武汉光电国家研究中心, 湖北 武汉430074
4 深圳华中科技大学研究院, 广东 深圳 518057
比较了基于光激发-光抑制(SPIN)和受激辐射损耗(STED)的两种双光束超分辨数据写入技术的机理,为基于STED的超分辨数据写入技术建立了动态物理模型,研究其光致聚合过程中的工作机制,并模拟了基于SPIN和STED的双光束超分辨数据写入技术在记录点尺寸和分辨率方面的差异。结果表明:基于STED的双光束超分辨数据写入技术具有无需抑制剂、原理简单的优势,但其需要第二束辅助光的强度较大且对聚合作用的抑制效率低,在多点写入情况下点的尺寸变大,记录均匀性变差。基于SPIN的双光束超分辨数据写入技术所需能量小,多点记录时引发剂分子消耗将抵消抑制剂分子消耗带来的影响,整体均匀性和稳定性好。因此基于SPIN的双光束超分辨数据写入技术在超高密度存储领域应用前景更好。
光数据存储 双光束超分辨数据写入技术 光激发-光抑制 受激辐射损耗 光致聚合
暨南大学光子技术研究院,广东省光纤传感与通信技术重点实验室,广州 510632
随着纳米技术的不断发展,各行业领域对纳米尺寸结构的加工需求与日剧增,激光直写加工技术作为一项重要的三维微纳结构加工手段,在多个现代科学技术领域得到了广泛应用。针对三维微纳结构制备,双光束超分辨激光加工技术,结合双光子聚合(TPP)过程与受激发射损耗(STED)纳米显微技术的原理,实现了超光学衍射极限的加工分辨率,为三维纳米结构加工技术及其应用提供了新的发展方向。本文将阐述基于双光束超分辨激光加工技术超光学衍射极限的基本原理,并回顾该技术在改善加工线宽及分辨率等方面的研究进展,以及在相关领域中的应用。最后就如何实现低成本、高效率、大面积、多功能性材料加工存在的挑战和未来发展方向进行了讨论。
激光直写加工 光聚合 受激辐射损耗 超分辨光学技术 三维纳米结构 direct laser writing photo polymerization stimulated emission depletion optical super-resolution 3D nanostructures
1 北京理工大学光电学院光电成像技术与系统教育部重点实验室, 北京 100081
2 北京利云技术开发公司, 北京 100192
介绍了一种新型柔性液晶薄膜光开关的设计与制作。该薄膜型光开关利用聚合物分散液晶(PDLC)材料的电光特性,实现光开关的功能。描述了光聚合引发相分离法制备小型PDLC光开关的方法,包括材料选择、工艺路线和制备流程,并给出了测试方法与对比分析结果,得到了较优的制备方法。提出并实现了小体积驱动的制作以及一种较稳固的电极引出方式。实验结果表明,直径为10 mm的圆形PDLC光开关,阈值电压为4.316 V,饱和电压为13.938 V,开启响应时间为2.6 ms,关闭响应时间为96.7 ms,对比度为11.46,具有小型、低压驱动的特点。
光学器件 光开关 光聚合引发相分离 聚合物分散液晶 薄膜 小型 激光与光电子学进展
2014, 51(2): 022304