研究了磁控溅射制备Sub/NiCrN_x/Ag/NiCrN_x/SiN_x/Air多层结构银反射镜的特性，分析了N₂对Ag薄膜、介质保护层及银反射镜光谱的影响。采用深度剖析X射线光电子能谱和透射电子显微镜分析了银反射镜短波波段（400~500 nm）反射率偏低的原因。采用分光光度计、扫描电子显微镜和X射线衍射仪研究了N₂占比对Ar/N₂混合气体溅射制备单层银膜光学性质、表面形貌及晶向结构的影响，比较了不同Ar/N₂比例混合气体溅射制备银反射镜的反射率，并分析了对应样品SiN_x保护层的化学计量比。实验结果显示，溅射制备银膜时，在Ar中引入一定比例的N₂，SiN_x保护层的化学计量比得到改善。当N₂体积比由0上升至40%时，Ar/N₂混合气体溅射制备的银反射镜在400 nm波长处反射率由71.7%提高到79.3%。此外，基于Ar/N₂混合气体溅射溅射制备的银反射镜样品具备优良的环境稳定性。