Author Affiliations
Abstract
1 School of Microelectronics, Shanghai University, Shanghai, China
2 Department of Precision Optics Engineering, Shanghai Institute of Optics and Fine Mechanics, Chinese Academy of Sciences, Shanghai, China
With the development of high-volume manufacturing for very-large-scale integrated circuits, the purity of the light source in the extreme ultraviolet lithography (EUVL) system needs to fulfil extreme requirements in order to avoid thermal effect, optical distortion and critical dimension errors caused by out-of-band radiations. This paper reviews the key technologies and developments of the spectral purity systems for both a free-standing system and a built-in system integrated with the collector. The main challenges and developing trends are also discussed, with a view towards practical applications for further improvement. Designing and manufacturing spectral purity systems for EUVL is not a single task; rather, it requires systematic considerations for all relevant modules. Moreover, the requirement of spectral purity filters drives the innovation in filtering technologies, optical micromachining and advanced metrology.
collector mirror extreme ultraviolet lithography spectral purity filter 
High Power Laser Science and Engineering
2023, 11(5): 05000e64
作者单位
摘要
1 西安工业大学 光电工程学院, 陕西 西安 710021
2 中国科学院 光谱成像技术重点实验室, 陕西 西安 710029
混合像元的存在是制约高光谱遥感应用精度的主要原因, 因此必须进行高光谱解混合。端元提取作为高光谱解混合的关键, 往往易受噪声和异常点的干扰。为了提高端元提取精度, 针对高光谱端元提取提出了一种空谱联合的预处理方法。首先, 定义了新概念光谱纯度指数, 主要用于预估高光谱图像中每个像元的光谱纯度; 其次, 给出了基于光谱纯度指数的空间去冗余方法, 利用真实地物的空间分布连续性, 判断和移除高光谱图像中冗余像元, 最终形成精简的候选端元集。实验结果表明: 采用提出的预处理方法后, 对于模拟高光谱图像, 提取的端元与原始端元之间夹角平均减少了9022 3°, 候选端元数量少于原始像元数量的10%。该预处理方法不仅有效消除了噪声和异常点的干扰, 提高了端元提取精度, 且大幅降低了时间复杂度。
高光谱 解混合 端元提取 预处理 光谱纯度指数 hyperspectral unmixing endmember extraction preprocessing spectral purity index 
液晶与显示
2020, 35(9): 955
陈晓 1,2,*李世光 1,*朱小磊 1,*马秀华 1[ ... ]陈卫标 1
作者单位
摘要
1 中国科学院上海光学精密机械研究所空间激光信息传输与探测技术重点实验室, 上海 201800
2 中国科学院大学, 北京 100049
基于长程气体吸收池技术,搭建了针对波长为1572 nm的单频激光的光谱纯度测量装置,理论分析了测量精度的影响因素,并推导出误差计算公式。结果表明,该装置可精确测量光谱纯度为90%~99.999%的激光输出。使用该装置对1572 nm种子注入光参量振荡器输出的单频纳秒脉冲进行测量,测得其光谱纯度为(99.996±0.0005)%,达到工业应用的要求。
测量 脉冲激光 光谱纯度 吸收池 误差分析 
中国激光
2019, 46(2): 0204006
作者单位
摘要
1 中国科学院上海光学精密机械研究所, 上海市全固态激光器与应用技术重点实验室, 上海 201800
2 中国科学院大学, 北京 100049
种子注入单频脉冲光参量振荡器(OPO)是实现差分吸收雷达激光发射源的重要技术手段,且其输出光谱纯度直接影响探测气体对激光能量的吸收,进而影响该雷达系统的测量精度。就种子注入单频脉冲激光器而言,光谱纯度表征在其输出光谱中,种子波长成分所占的比例可以综合反映脉冲激光的输出线宽和频率稳定性等光谱特性。针对种子注入单频1.57 μm 脉冲OPO,理论上分析了光谱纯度的影响因素,设计并搭建了一套基于长程气体吸收池的光谱纯度测量系统。实验结果表明,当种子注入功率为26 mW,OPO 输出单脉冲能量为1.1 mJ时,种子注入单频脉冲OPO 的光谱纯度达到99.9%。
激光器 种子注入 单频 光谱纯度 吸收池 
中国激光
2015, 42(7): 0702011
作者单位
摘要
1 中国科学院长春光学精密机械与物理研究所, 吉林 长春 130022
2 中国科学院研究生院, 北京 100049
极紫外光刻是实现22 nm技术节点的候选技术。极紫外光刻使用的是波长为13.5 nm的极紫外光,但在160~240 nm波段,极紫外光刻中的激光等离子体光源光谱强度、光刻胶敏感度以及多层膜的反射率均比较高,光刻胶在此波段的曝光会降低光刻系统的光刻质量。从理论和实验两方面验证了在传统Mo/Si多层膜上镀制SiC单层膜可对极紫外光刻中的带外波段进行有效抑制。通过使用X射线衍射仪、椭偏仪以及真空紫外(VUV)分光光度计来确定薄膜厚度、薄膜的光学常数以及多层膜的反射率,设计并制备了[Mo/Si]40 SiC多层膜。结果表明,在极紫外波段的反射率减少5%的前提下,带外波段的反射率减少到原来的1/5。
薄膜 多层膜 光谱纯度 极紫外 
光学学报
2012, 32(10): 1031002

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