初学峰 1,2,*胡小军 1,2张祺 1,2黄林茂 1,2谢意含 1,2
作者单位
摘要
1 吉林建筑大学 寒地建筑综合节能教育部重点实验室,吉林 长春 130118
2 吉林建筑大学 电气与计算机学院,吉林 长春 130118
为了提高薄膜晶体管的性能,本文基于射频磁控溅射技术,采用氧化锌锡(ZTO)材料作为沟道层,在SiO2/p-Si衬底上制备高性能ZTO薄膜晶体管。采用AFM、XRD、UV-Vis研究了溅射功率对ZTO薄膜的表面形貌和光学性能的影响。使用半导体参数仪对ZTO薄膜晶体管进行电学性能的测试,利用XPS分析研究溅射功率对ZTO薄膜中元素组成和价态的影响,探索高性能薄膜晶体管的原理机制。实验结果表明,所有ZTO薄膜样品是非晶结构,表面致密,透光率均大于90%。适当增加溅射功率能够改善ZTO薄膜晶体管的电学性能。在90 W溅射功率下制备的薄膜晶体管综合性能较好,其饱和迁移率达到了15.61 cm2/(V·s),亚阈值摆幅为0.30 V/decade,阈值电压为-5.06 V,电流开关比为8.92×109
薄膜晶体管 溅射功率 XPS分析 ZTO薄膜 thin-film transistor sputtering power XPS analysis ZTO thin film 
液晶与显示
2024, 39(1): 40
作者单位
摘要
福州大学 物理与信息工程学院,福州350108
介绍了一种利用飞秒激光技术制备的石墨烯异质结薄膜晶体管(GHTFT)。基于还原氧化石墨烯制备石墨烯的原理,该晶体管利用飞秒激光直接在硅基底上制备石墨烯,最终获得了3.05×102的电流开关比。相较于以前报道的石墨烯晶体管,该值提升了102。同时还研究了不同还原程度的氧化石墨烯对GHTFT电流开关比的影响,结果表明氧化石墨烯的还原程度越高,GHTFT的电流开关比越大,这说明飞秒激光能够有效调节GHTFT的电学性能。除此之外,鉴于当前石墨烯制备的困难,提出的方法能够有效避免转移过程和化学过程,同时飞秒激光的高效率提高了石墨烯晶体管的制备效率。
石墨烯异质结薄膜晶体管 还原氧化石墨烯 飞秒激光 thin film transistor based on graphene hetero‑junction reduced graphene oxide femtosecond laser 
光电子技术
2023, 43(4): 293
作者单位
摘要
1 东南大学 机械工程学院,江苏南京289
2 无锡尚实电子科技有限公司,江苏无锡14174
在TFT-LCD面板缺陷检测中,检测对象背景复杂、缺陷细微且种类繁多,而工业生产实时性要求高,传统的缺陷分类算法往往难以兼顾精度和速度要求,无法适用于实际生产应用。为均衡TFT-LCD面板缺陷分类的准确率和速率,提出一种基于Swin Transformer的轻量化深度学习图像分类模型。首先对模型每层输入的特征图进行Token融合以减少模型计算量,从而提高模型的轻量化水平。其次引入深度可分离卷积模块以帮助模型增加卷积归纳偏置,从而缓解模型对海量数据的依赖问题。最后使用知识蒸馏方法来克服模型轻量化导致的检测精度下降问题。在自制TFT-LCD面板缺陷分类数据集上的实验表明,本文提出的改进模型相比基线模型,FLOPs计算量降低了2.6 G,速度指标提升了17%,而Top-1 Acc精度仅损失1.3%,且与其他图像分类主流模型相比,在自制数据集和公开数据集上都具有更均衡的精度和速度。
TFT-LCD Transformer 图像分类 计算机视觉 Thin Film Transistor Liquid Crystal Display(TFT-LCD) transformer image classification computer vision 
光学 精密工程
2023, 31(22): 3357
Author Affiliations
Abstract
1 College of Electronic and Information Engineering, Shenzhen University, Shenzhen 518060, China
2 Institute of Microscale Optoelectronics (IMO), Shenzhen University, Shenzhen 518060, China
3 State Key Laboratory of Advanced Displays and Optoelectronics Technologies, The Hong Kong University of Science and Technology, Clear Water Bay, Kowloon, Hong Kong, China
Indium-tin-zinc oxide (ITZO) thin-film transistor (TFT) technology holds promise for achieving high mobility and offers significant opportunities for commercialization. This paper provides a review of progress made in improving the mobility of ITZO TFTs. This paper begins by describing the development and current status of metal-oxide TFTs, and then goes on to explain the advantages of selecting ITZO as the TFT channel layer. The evaluation criteria for TFTs are subsequently introduced, and the reasons and significance of enhancing mobility are clarified. This paper then explores the development of high-mobility ITZO TFTs from five perspectives: active layer optimization, gate dielectric optimization, electrode optimization, interface optimization, and device structure optimization. Finally, a summary and outlook of the research field are presented.
thin-film transistor (TFT) indium-tin-zinc oxide (ITZO) TFT mobility active matrix (AM) displays 
Journal of Semiconductors
2023, 44(9): 091602
Author Affiliations
Abstract
State Key Laboratory of Advanced Displays and Optoelectronics and Technologies, Department of Electronic and Computer Engineering, The Hong Kong University of Science and Technology, Hong Kong, China
Here we review two 300 °C metal–oxide (MO) thin-film transistor (TFT) technologies for the implementation of flexible electronic circuits and systems. Fluorination-enhanced TFTs for suppressing the variation and shift of turn-on voltage (VON), and dual-gate TFTs for acquiring sensor signals and modulating VON have been deployed to improve the robustness and performance of the systems in which they are deployed. Digital circuit building blocks based on fluorinated TFTs have been designed, fabricated, and characterized, which demonstrate the utility of the proposed low-temperature TFT technologies for implementing flexible electronic systems. The construction and characterization of an analog front-end system for the acquisition of bio-potential signals and an active-matrix sensor array for the acquisition of tactile images have been reported recently.
flexible electronics metal–oxide semiconductor thin-film transistor dual gate fluorination analog front-end system sensors 
Journal of Semiconductors
2023, 44(9): 091601
作者单位
摘要
1 北京理工大学 光电学院,北京市混合现实与先进显示技术工程研究中心,北京 100081
2 重庆京东方显示技术有限公司,重庆 400714
3 北京京东方显示技术有限公司,北京 101520
随着显示技术的不断发展,对高性能、高稳定性的薄膜晶体管(Thin Film Transistor,TFT)的需求日趋增加,通过结晶改善薄膜晶体管性能的方法受到大量关注。当前,铟镓锌氧化物(IGZO)材料由于具有迁移率高、柔性好、透明度高等优势,被广泛用于薄膜晶体管的沟道中,而改善IGZO沟道层的结晶形态也成为研究热点。本文总结了晶态IGZO薄膜晶体管器件的研究进展,详细介绍了IGZO系化合物的晶体结构,重点阐述了单晶、c轴取向结晶、六方多晶型、尖晶石型、纳米晶型和原生结晶型IGZO的结构和各晶态IGZO薄膜晶体管的制备方法、器件性能和稳定性,深入分析其微观结构,总结物理特性,阐述不同晶系结构的结晶机理,建立不同晶体结构与电学特性的关系,最后对晶态IGZO薄膜晶体管的发展进行展望。
晶态IGZO薄膜 薄膜晶体管 晶体结构 研究进展 crystalline IGZO film thin film transistor crystal structure research progress 
液晶与显示
2023, 38(8): 1031
光电工程
2023, 50(6): 230005
作者单位
摘要
福建工程学院 微电子技术研究中心,福建 福州 350108
为了适应新一代电子技术的日益发展,开发各种新型存储器显得日益重要。与传统存储器相比,新一代的存储器不但需要更高性能的记忆特性,还需要可以满足灵活性、透明性或神经形态功能等特定应用的需求。本文以有机半导体材料C8-BTBT作为半导体层,PVP量子点共混作为浮栅提出了一种有机透明存储器(透明度≥83%)。器件具有超过40 V的存储窗口,编写/擦除电流比大于103,在104 s后仍能稳定分辨开关态。本文工作为透明柔性器件提供了一种新的解决方案,并预示了它们在下一代透明有机电子领域的潜力。
有机薄膜晶体管 存储器 透明器件 量子点 浮栅 organic thin film transistor memory transparent device quantμm dots floating gate 
液晶与显示
2023, 38(7): 919
田英良 1,2
作者单位
摘要
1 北京工业大学材料与制造学部,北京 100124
2 平板显示玻璃工艺技术国家工程研究中心,咸阳 712000
结合我国薄膜晶体管液晶显示(TFT-LCD)产业发展,按照时间顺序和产业参与主体回顾了我国LCD基板玻璃产业发展历史。在国家政策支持和企业努力下,整个LCD基板玻璃产业经历三十余年的探索与磨砺,终于在“十三五”期间突破了基板玻璃G8.5系列的技术壁垒,实现了高世代、大尺寸LCD面板用基板玻璃国产化配套。LCD基板玻璃产业做大做强还需政产学研用多方共同努力补链和强链,才能尽早实现我国LCD基板玻璃产业的自主可控。
薄膜晶体管液晶显示 基板玻璃 产业发展 自主可控 thin-film transistor liquid crystal display substrate glass development history independence and controllability 
玻璃搪瓷与眼镜
2022, 50(12): 31
作者单位
摘要

本文介绍了聚乙烯醇(PVA)衬底薄膜晶体管(TFT)的器件制备、电学性能分析和器件溶解特性的演示。该器件以高介电材料氧化铪(HfO2)作为绝缘层,铝掺杂氧化锌(AZO)作为有源层,铝作为栅极、源级与漏极。采用低温磁控溅射(PVD)法成功在PVA衬底上制备出高介电常数(高k )绝缘层的薄膜晶体管,并基于该器件的绝缘层结构做了进一步优化:利用氧化铪(HfO2)氧化铝(Al2O3)的叠层结构作为绝缘层。结果表明相比于单层氧化铪绝缘层结构的TFT,叠层结构绝缘层的TFT器件性能更优,具有更低的漏电流、更高的开关比和较低的亚阈值摆幅,更适合作为聚乙烯醇衬底薄膜晶体管的绝缘层。“三明治”叠层结构绝缘层的器件开/关比达到2.5×106,阈值电压为10.6 V,亚阈值摆幅为0.53 V·dec-1,载流子迁移率为3.01 cm2·V-1·s-1

液晶与显示
2022, 37(12): 1546

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