波片通常用于测量光学系统的偏振效应。对于大入射角的超高数值孔径（NA）成像系统，待测光不再平行于系统光轴，而是与系统光轴有较大夹角的圆锥形光束，所以在高NA的成像系统中使用的波片不是传统的两片式零级1/4波片，而是正负晶体组合的四片式宽视场角（WVA）1/4波片。分析了WVA 1/4波片的装调角度误差（绕成像系统光轴的旋转误差和垂直于系统光轴的倾斜误差）、晶体的厚度和光轴加工误差所引起的附加相位差。分析结果显示，在NA为1.35的光刻系统中，当四片式WVA 1/4波片的装调角度误差和单片晶体光轴加工误差均为±2°时，后者比前者所引起的附加相位差大10倍以上。分析了WVA 1/4波片装调和加工误差引起的最大附加相位差对高NA光刻系统掩模面光偏振度（DOP）的影响。当WVA 1/4波片的附加相位差在±10°以内时，DOP的偏差可以控制在0.1%的范围内。