1 长春大学理学院, 吉林 长春 130022
2 爱发科(苏州)技术研究开发有限公司, 江苏 苏州 215026
采用电感耦合等离子体(ICP)刻蚀设备对应用于垂直腔面发射激光器的GaAs/AlGaAs材料进行刻蚀工艺研究。该刻蚀实验采用光刻胶作为刻蚀掩模,Cl2/BCl3作为刻蚀工艺气体,通过实验分析总结了ICP源功率、射频偏压功率和腔体压强对GaAs/AlGaAs材料和掩模刻蚀速率的影响。利用扫描电子显微镜观察不同参数条件对样品侧壁垂直度和底部平坦度的影响。最终在保证高刻蚀速率的前提下,通过调整优化各工艺参数,得到了侧壁光滑、底部平坦的圆台结构。
激光光学 垂直腔面激光发射器 电感耦合等离子体刻蚀 圆台结构 GaAs/AlGaAs材料
电子科技大学,光电信息学院,四川,成都,610054
提高OLED的外发光效率对于长寿命、低功耗的OLED显示器和有机发光光源尤为重要.利用几何光学模型计算了OLED典型结构的外发光效率,结果表明仅有18%的光成为外输出光,主要的光损失来自OLED器件内的光波导效应.提出了一种理想的圆台结构OLED光输出增强模型,处于圆台顶的发光面发出的光线经侧面反射后成为外输出光,有效反射面越大,光输出增强效果越明显.有效反射面的大小取决于圆台侧壁质量和圆台半锥角及其高度.对该结构的优化进行了详细讨论.
外量子效率 光波导效应 圆台结构 OLED
