针对目前检验方法制约大口径、大相对孔径凹非球面反射镜的应用,提出一种基于贴合双透镜的大口径、大相对孔径凹非球面检验方法。与Offner检验方法不同,检验光路中的透镜在反射前后的光路中分别作为校正透镜和自准镜。根据三级像差理论推导初始结构,给出利用单透镜和贴合双透镜检验凹抛物面的残余像差曲线图,并对其进行分析。实验结果表明,自准校正透镜位于共轭后点前的检验方法可以用于大口径、大相对孔径凹非球面反射镜的检验。所提方法从加工、装配和使用等方面考虑更简单方便,为凹非球面检验提供新的思路,并且为利用三透镜检验更大口径和相对孔径的凹非球面打下基础。

为了满足瞄准镜体积小、重量轻的要求, 需要物镜采用摄远型结构。分析了摄远型透镜转像式物镜的光学特性与像差特点, 提出了摄远型镜组、正场镜和对称式转像镜组构成的结构型式。依据系统的成像特性, 推导了光焦度分配和外形尺寸计算公式。采用光学设计软件Zemax设计了摄远型透镜转像式物镜, 系统焦距为-100 mm, 入瞳直径为25 mm, 视场角为8°, 系统总长仅为99.92 mm。设计结果表明, 采用该方法设计的瞄准镜物镜在40 lp/mm处各个视场的调制传递函数均在0.2以上, 满足目视光学仪器的使用要求。

残留谱线弯曲限制了切尔尼-特纳平面光栅光谱仪在成像光谱仪中的应用.本文不同于传统的基于棱镜的光栅谱线弯曲补偿方法，提出了基于倾斜场镜的补偿方法，即在校正场曲的同时对入射到场镜不同区域，不同波长的狭缝像分别进行谱线弯曲校正，且没有改变系统的其它光学特性.对狭缝大小为7.8 mm×0.016 mm 、光谱范围0.31~0.5 μm、光谱分辨率0.4 nm、物方焦距70 mm、1∶1放大倍率的切尔尼-特纳成像光谱仪进行了优化设计，结果全谱段、全视场MTF>0.8，点列图RMS半径小于9 μm，相对谱线弯曲小于0.2%，满足设计要求.实际设计表明该方法对于可选用光学玻璃有限，且能量较弱的紫外光学系统是一种可选的优化设计方法.

基于Ritchey-Chretien (R-C)光学系统, 采用Zemax软件设计次镜为类曼金反射镜的折反射式光学系统。系统的焦距为3 000 mm, 视场角为1°, 相对孔径为1/8, 工作谱段为450 nm~900 nm。结果表明, 截止频率为50 lp/mm处的MTF值为0.55, 接近衍射极限, 畸变小于0.022%。类曼金镜的非球面反射面与主镜构成R-C光学系统, 消除了系统的球差和彗差, 折射面分担次镜的光焦度, 减小了非球面的非球面偏心率。类曼金反射镜的加入, 将次镜非球面偏心率的平方由4.356减小到1.940, 而且系统总长度由600 mm减小到550 mm。

自行研制紫外微加工系统，系统有效工作范围120mm×120mm，最小加工线宽80μm，系统操作简单、运行稳定高效。实验中完成对Nd∶YAG紫外激光器、XY扫描振镜以及F－Theta平场透镜设计。实现波长355nm紫外激光最高平均功率2．13W稳定输出，1h内输出功率波动小于7%；XY振镜最大扫描角度士28°，线性响应速度0．35～0．5ms；F－Theta视场角为士25°，有效焦距为250mm。最后对系统存在的问题进行了分析。

定性地论述了卡塞格林系统设计中焦距、场镜焦距和后工作距离大小的选择.并论述了在设计中主、次镜必须根据设计结果的分析,调整主、次镜的半径和间隔,从而使后工作距离,遮栏比都能满足设计要求,最终使系统能够获得最优的设计性能以满足设计需要,在系统的垂轴像差难以消除时,也需考虑变换系统的光栏位置.

通过对准分子激光光束特性进行研究,并根据准分子激光微加工的需要,设计了一套实用的准分子激光微加工光路。

本文介绍一种新型的反射式场镜的设计。该场镜除了具有透射式场镜的作用外,同时还起扩束作用。