激光预处理是提高激光薄膜抗激光损伤阈值的重要手段。对电子束蒸发方式镀制的HfO2/SiO2反射膜采用大口径激光进行了辐照，并采用激光量热计测量了激光辐射前后的弱吸收值。采用聚焦离子束(FIB)技术分析了激光辐照后薄膜的损伤形态并探究了损伤原因，首次采用扫描电镜拍摄到了节瘤部分喷发时的形貌图，并对其进行了FIB分析，为进一步了解节瘤的损伤过程提供了依据。实验发现，激光辐照过后的激光薄膜弱吸收明显降低，激光预处理有效减少了引起薄膜吸收的缺陷，存在明显的清洗效应; 在本实验采用的HfO2/SiO2反射膜中，激光预处理技术对于祛除位于基底上种子形成的节瘤是有效的，原因是激光辐射过后该节瘤进行了预喷发并不会对后续激光产生影响; 而激光预处理技术对位于膜层中间的可能是镀膜过程中材料飞溅引起的缺陷是无效的，需要通过其他手段对该类节瘤进行祛除。

采用溶胶-凝胶工艺分别制备了SiO2和ZrO2单层薄膜、ZrO2/SiO2双层膜以及ZrO2/SiO2多层高反膜。用输出波长为1064nm、脉宽为6.3ns的YAG激光器对薄膜进行了激光损伤实验。观察了薄膜经强激光辐照后的损伤情况, 讨论了薄膜的激光损伤行为, 并从理论上分析了产生这些损伤的原因, 为进一步镀制高质量的ZrO2/SiO2多层高反膜提供了依据。

激光预处理是提高薄膜元件抗激光损伤阈值的重要手段。对电子束蒸发HfO2, SiO2块状材料镀制的基频高反膜进行了1-on-1和R-on-1阈值测试,比较分析了两种测试情况下出现的典型损伤形貌。实验发现, R-on-1测试表现出明显的预处理效应, 其所测抗激光损伤阈值是1-on-1测试的3倍; 1-on-1测试下的典型损伤形貌是围绕平底小坑的等离子烧蚀损伤, R-on-1测试下的典型损伤形貌仅是表面等离子体烧蚀损伤; 表面轮廓测试的结果表明两种损伤形貌的烧蚀区域中心都是凸起的。两种典型损伤破坏形貌及其差异的研究说明吸收性缺陷是引起此样品损伤的主要诱因, 预处理对吸收性缺陷的力学稳定作用是此样品抗激光损伤阈值提高的宏观原因。