在高能激光系统中, 反射膜的损伤生长特性和初始损伤一样重要。对薄膜损伤生长特性的研究将有助于探究反射膜损伤机制, 从而进一步有效地提高其抗激光损伤能力。使用电子束蒸发(EB)和离子束辅助(IAD)两种工艺制备了1 064 nm波长下的HfO2/SiO2反射膜, 利用四种尺寸的单分散的SiO2小球形成人工节瘤, 来研究薄膜镀制工艺和节瘤尺寸对节瘤损伤生长特性的影响。激光损伤测试结果表明: 节瘤损伤生长阈值基本随节瘤尺寸的增加而减小。EB工艺制备的反射膜中, 四种尺寸节瘤的损伤生长阈值都高于其初始损伤阈值, 而IAD工艺制备的反射膜中结果则相反。另外, IAD工艺要比EB工艺制备的反射膜中的节瘤在发生初始损伤后更易于损伤生长, 说明薄膜镀制工艺对节瘤的损伤生长速度有一定的影响。

以1064 nm波长作用下的HfO2/SiO2高反射薄膜为研究对象，研究了高反射薄膜在损伤生长过程中分层剥落初始损伤结构的变化规律、损伤形貌特征和损伤生长阈值等特性。实验结果表明：分层剥落初始损伤结构的横向尺寸随激光能量密度的增加呈分段线性增长，破斑沿纵向拓展的损伤生长阈值是沿横向拓展的损伤生长阈值的2倍以上，初始损伤结构横向尺寸的生长率与能量密度呈指数关系，且生长阈值随着辐照次数的增加显著降低。