1 长沙学院电子与通信工程系， 湖南 长沙 410003
2 长沙学院光电信息技术创新团队， 湖南 长沙 410003
3 北京理工大学光电学院光电成像技术与系统教育部重点实验室（筹）， 北京 100081
超大数值孔径(NA)光刻成像中，掩模保护膜上的入射光线入射角范围增大，用传统方法优化掩模保护膜难以增大斜入射光的透射率。基于薄膜光学原理提出一种新的掩模保护膜优化方法，确保光线在整个入射角范围内的平均透射率最大。利用琼斯矩阵方法探讨膜层的透射属性和相位特征，得到相应的琼斯光瞳来分析膜层带来的偏振像差。结果表明，对比传统的掩模保护膜优化方法，新方法能有效提高斜入射光线的透射率，减小膜层引起的偏振像差。新的掩模保护膜优化方法能为超大NA光刻成像的掩模保护膜设置提供必要的理论基础和技术支撑。
成像系统 偏振像差 超大数值孔径光刻 掩模保护膜 琼斯矩阵方法 薄膜光学
