长春理工大学 光电工程学院, 吉林 长春 130022
鉴于非球面光学元件的应用日益广泛, 非球面加工技术成为研究热点, 提出一种基于散粒磨料振动抛光非球面的加工方法。非球面元件待抛光表面与磨粒均匀接触, 通过振动抛光装置为游离磨粒提供抛光作用力, 使材料去除均匀, 降低表面粗糙度。以材料为ZK-10L、尺寸为Φ55 mm的光学元件为实验对象, 分析了振动幅度、抛光液浓度、磨粒粒径和抛光时间对抛光效果的影响, 当振动幅度为5 mm、抛光液浓度为80 g/L、磨粒粒径为1 mm时, 振动抛光8 h后试件的表面粗糙度从84.4 nm降低到9.4 nm, 而试件的面形精度基本不变, 从而在保证面形的前提下达到抛光的目的。
非球面 散粒磨料 振动抛光 表面粗糙度 aspheric loose abrasive grains vibration polishing
