作者单位
摘要
云南曲靖师范学院 物理系,云南 曲靖 655000
在低真空及亚高温(200-300 ℃)下,通过热氧化法在Si单晶基底上合成了呈准直阵列的椎形结构的氧化铌(NbOx)非晶结构纳米薄膜,薄膜经热处理后室温下在可见光区具有很好的光致发光。实验研究了退火温度与发光强度规律,对铌氧化物纳米薄膜的光致发光(PL)机制进行了初步分析和讨论。变功率光致发光(PL)实验有力地支持了初步讨论结果。
材料 光致发光 热氧化法 Nb氧化物薄膜 非晶纳米材料 
光学学报
2009, 29(10): 2934

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