华中科技大学,电气与电子工程学院,武汉,430074
建立了一套辉光放电等离子体对电容器薄膜进行表面处理的装置.采用N2,O2及Ar三种气体对聚丙烯、聚酯和聚苯硫醚膜进行了表面处理.红外光谱分析表明:薄膜表面的生成物与薄膜种类、气体种类和处理强度密切相关.场扫描电镜显示了薄膜表面的刻蚀现象明显.处理过的薄膜,非晶相被去除,球晶暴露.能谱分析说明了薄膜中C元素下降,N,O元素增加,但总体改变量很小.处理前后薄膜的直流击穿电压没有明显改变,但刻蚀过程造成的薄膜表面粗化可帮助电容器的浸渍过程更充分,从而可提高电容器的使用场强与储能密度.
等离子体 表面处理 薄膜 电容器 聚丙烯 聚酯 聚苯硫醚
