北京工业大学,电子与信息控制工程学院,北京市光电子技术实验室,北京,100022
超薄、平整的硅膜对于制作高灵敏度红外探测器是非常重要的.这种超薄硅膜的各向异性腐蚀技术,包括有机溶液EPW和无机溶液KOH及KOH+IPA(异丙醇).从腐蚀速率、腐蚀表面质量、腐蚀停特性、腐蚀边缘形貌及腐蚀工艺的角度分析比较了两种腐蚀系统,分别制作出了约1μm厚的平整超薄硅膜,并研究了不同掩膜材料在腐蚀液中的抗蚀性,为高灵敏度红外探测器的制作奠定了工艺基础.
超薄硅膜 各向异性腐蚀 高灵敏度红外探测器 Very thin Si membrane Anisotropic etching High sensitivity infrared detector
