1 中国科学院上海技术物理研究所 红外物理国家重点实验室，上海200083
2 齐齐哈尔大学 通信与电子工程学院，黑龙江 齐齐哈尔161006
3 华东师范大学 极化材料与器件教育部重点实验室，上海200241
采用溶胶-凝胶法在Si(111)衬底上制备纳米TiO2薄膜，利用电化学阴极还原法对TiO2纳米薄膜掺杂Nd3+，对其结构及光催化活性进行研究，结果显示，所制备的样品均为多晶结构，随着Nd3+掺杂量的增加颗粒尺寸明显减小，比表面积增大.Nd3+的掺杂导致TiO2光催化剂吸光能力增强，同时吸收限红移，提高了光的利用率，并且当掺杂量为1.2%时，光催化活性最好.
TiO2薄膜 光催化 钕掺杂 titanium dioxide thin film photocatalytic activity neodymium doping
1 中国科学院上海技术物理研究所 红外物理国家重点实验室，上海200083
2 齐齐哈尔大学 通信与电子工程学院，黑龙江 齐齐哈尔161006
3 华东师范大学 极化材料与器件教育部重点实验室，上海20024
采用溶胶-凝胶和旋涂抽滤方法，在硅微通道(Si-MCP)衬底的内壁上涂敷前驱物，然后分别在600 ℃， 650 ℃，700 ℃和750 ℃条件下制备Bi3.15Nd0.85Ti3O12/Si-MCP 微纳薄膜阵列，并对其结构及铁电特性进行表征.研究结果显示，退火温度越高，Si-MCP内被局域化的微纳薄膜结晶颗粒尺寸越大，同时BNT/Si-MCP微纳薄膜阵列越趋向沿c 轴取向，尤其在750 ℃ 下制备的薄膜具有表面形貌均匀和c轴取向程度高等优点，且剩余极化强度可达93.8 μC/cm2.
铁电薄膜 微纳薄膜阵列 硅微通道板 钕掺杂太酸铋 ferroelectric films micro-nano film arrays Si MCP BNT
