遗传算法在薄膜特性参量测量中的应用 | 光子学报 -- 中国光学期刊网

光子学报, 2007, 36 (11): 2053, 网络出版: 2008-07-08

遗传算法在薄膜特性参量测量中的应用

The Application of Genetic Algorithm in Thin Film Characters Measurement

宫兴致陈燕平刘玉玲余飞鸿

作者单位

浙江大学,光电系现代光学仪器国家重点实验室,杭州,310027

引用该论文

宫兴致, 陈燕平, 刘玉玲, 余飞鸿. 遗传算法在薄膜特性参量测量中的应用[J]. 光子学报, 2007, 36(11): 2053.

宫兴致, 陈燕平, 刘玉玲, 余飞鸿. The Application of Genetic Algorithm in Thin Film Characters Measurement[J]. ACTA PHOTONICA SINICA, 2007, 36(11): 2053.

引用列表

1、基于粒子群优化算法的膜系设计方法光子学报, 2011, 40 (9): 1338

2、基于遗传退火算法的多层薄膜厚度测量光电工程, 2010, 37 (2): 45

宫兴致, 陈燕平, 刘玉玲, 余飞鸿. 遗传算法在薄膜特性参量测量中的应用[J]. 光子学报, 2007, 36(11): 2053. 宫兴致, 陈燕平, 刘玉玲, 余飞鸿. The Application of Genetic Algorithm in Thin Film Characters Measurement[J]. ACTA PHOTONICA SINICA, 2007, 36(11): 2053.

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