光电工程, 2017, 44 (12): 1225, 网络出版: 2018-01-17
GaSb基VCSEL刻蚀工艺研究
Study on etch process of GaSb-based VCSEL
基本信息
| DOI: | 10.3969/j.issn.1003-501x.2017.12.011 |
| 中图分类号: | TN248 |
| 栏目: | 光电进展 |
| 项目基金: | 国家自然科学基金(11474038，61376045，11474036)；总装预研究基金(61424050302162405002)资助。 |
| 收稿日期: | 2017-06-04 |
| 修改稿日期: | 2017-10-24 |
| 网络出版日期: | 2018-01-17 |
| 通讯作者: | 张家斌 (jiabin_1320622@sina.com) |
| 备注: | -- |
张昕, 李洋, 王霞, 李杨, 岳光礼, 王志伟, 谢检来, 张家斌, 郝永芹. GaSb基VCSEL刻蚀工艺研究[J]. 光电工程, 2017, 44(12): 1225. Xin Zhang, Yang Li, Xia Wang, Yang Li, Gangli Yue, Zhiwei Wang, Jianlai Xie, Jiabin Zhang, Yongqin Hao. Study on etch process of GaSb-based VCSEL[J]. Opto-Electronic Engineering, 2017, 44(12): 1225.
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