强激光与粒子束, 2011, 23 (3): 806, 网络出版: 2011-04-01
激光干涉光刻法制作100 nm掩模
Fabrication of 100 nm mask by laser interference lithography
基本信息
DOI: | -- |
中图分类号: | TN305.7 |
栏目: | 粒子束技术 |
项目基金: | 微细加工光学国家重点实验室基金项目;国家自然科学基金项目(10775029);四川省科技支撑计划项目 |
收稿日期: | 2010-06-03 |
修改稿日期: | 2010-12-08 |
网络出版日期: | 2011-04-01 |
通讯作者: | |
备注: | -- |
陈欣, 赵青, 方亮, 王长涛, 罗先刚. 激光干涉光刻法制作100 nm掩模[J]. 强激光与粒子束, 2011, 23(3): 806. Chen Xin, Zhao Qing, Fang Liang, Wang Changtao, Luo Xiangang. Fabrication of 100 nm mask by laser interference lithography[J]. High Power Laser and Particle Beams, 2011, 23(3): 806.