激光干涉光刻法制作100 nm掩模 | 强激光与粒子束 -- 中国光学期刊网

强激光与粒子束, 2011, 23 (3): 806, 网络出版: 2011-04-01

激光干涉光刻法制作100 nm掩模

Fabrication of 100 nm mask by laser interference lithography

陈欣 ^1,2赵青 ¹方亮 ²王长涛 ²罗先刚 ²

作者单位

¹ 电子科技大学物理电子学院，成都 610054

² 中国科学院光电技术研究所, 微细加工光学国家重点实验室，成都 610209

激光干涉光刻离子束刻蚀纳米光刻微纳结构制造 laser interference lithography ion beam etching nanolithography nanostructure fabrication

知识挖掘

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