光学学报, 2018, 38 (12): 1222003, 网络出版: 2019-05-10   

射流抛光中抛光液黏度对材料去除函数的影响 下载: 951次

Influence of Polishing Slurry Viscosity on the Material Removal Function for Fluid Jet Polishing
作者单位
中国工程物理研究院机械制造工艺研究所, 四川 绵阳 621000
引用该论文

孙鹏飞, 张连新, 李建, 王中昱, 周涛. 射流抛光中抛光液黏度对材料去除函数的影响[J]. 光学学报, 2018, 38(12): 1222003.

Pengfei Sun, Lianxin Zhang, Jian Li, Zhongyu Wang, Tao Zhou. Influence of Polishing Slurry Viscosity on the Material Removal Function for Fluid Jet Polishing[J]. Acta Optica Sinica, 2018, 38(12): 1222003.

引用列表
1、 单晶硅化学机械抛光划痕演变研究光学学报, 2022, 42 (9): 0912002
2、 大功率激光作用下光学系统轴向焦移仿真激光与光电子学进展, 2021, 58 (11): 1114011

孙鹏飞, 张连新, 李建, 王中昱, 周涛. 射流抛光中抛光液黏度对材料去除函数的影响[J]. 光学学报, 2018, 38(12): 1222003. Pengfei Sun, Lianxin Zhang, Jian Li, Zhongyu Wang, Tao Zhou. Influence of Polishing Slurry Viscosity on the Material Removal Function for Fluid Jet Polishing[J]. Acta Optica Sinica, 2018, 38(12): 1222003.

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