光学学报, 2018, 38 (12): 1222003, 网络出版: 2019-05-10
射流抛光中抛光液黏度对材料去除函数的影响 下载: 951次
Influence of Polishing Slurry Viscosity on the Material Removal Function for Fluid Jet Polishing
基本信息
DOI: | 10.3788/AOS201838.1222003 |
中图分类号: | TH162.1 |
栏目: | 光学设计与制造 |
项目基金: | 国家自然科学基金 、中国物理研究院超精密加工重点实验室基金(ZZ15002)、 |
收稿日期: | 2018-06-04 |
修改稿日期: | 2018-07-11 |
网络出版日期: | 2019-05-10 |
通讯作者: | |
备注: | -- |
孙鹏飞, 张连新, 李建, 王中昱, 周涛. 射流抛光中抛光液黏度对材料去除函数的影响[J]. 光学学报, 2018, 38(12): 1222003. Pengfei Sun, Lianxin Zhang, Jian Li, Zhongyu Wang, Tao Zhou. Influence of Polishing Slurry Viscosity on the Material Removal Function for Fluid Jet Polishing[J]. Acta Optica Sinica, 2018, 38(12): 1222003.