ITO像素电极工序对于HADS 产品TFT特性的影响

林致远; 杨成绍; 邹志翔; 操彬彬; 黄寅虎; 文锺源; 王章涛

doi:doi:10.3788/yjyxs20163104.0370

液晶与显示, 2016, 31 (4): 370, 网络出版: 2016-04-13

ITO像素电极工序对于HADS 产品TFT特性的影响

Effects of pixel ITO process on TFT characteristics of HADS product

林致远 ^*杨成绍邹志翔操彬彬黄寅虎文锺源王章涛

作者单位

合肥鑫晟光电科技有限公司，安徽合肥 230012

图 & 表

林致远, 杨成绍, 邹志翔, 操彬彬, 黄寅虎, 文锺源, 王章涛. ITO像素电极工序对于HADS 产品TFT特性的影响[J]. 液晶与显示, 2016, 31(4): 370. LIN Zhi-yuan, YANG Cheng-shao, ZOU Zhi-xiang, CAO Bin-bin, Huang Yin-hu, WEN Zhong-yuan, WANG Zhang-tao. Effects of pixel ITO process on TFT characteristics of HADS product[J]. Chinese Journal of Liquid Crystals and Displays, 2016, 31(4): 370.