激光预处理ZrO<sub>2</sub>-SiO<sub>2</sub> 1064 nm高反射膜的机理

李笑; 刘晓凤; 单永光; 赵元安; 邵建达; 范正修

doi:doi:10.3788/aos20103008.2284

光学学报, 2010, 30 (8): 2284, 网络出版: 2010-08-13

激光预处理ZrO₂-SiO₂ 1064 nm高反射膜的机理

Mechanism of Laser-Conditioning ZrO₂-SiO₂ High Reflective Thin Film at 1064 nm

李笑 ^1,2,*刘晓凤 ^1,2单永光 ^1,2赵元安 ¹邵建达 ¹范正修 ¹

作者单位

¹ 中国科学院上海光学精密机械研究所,中国科学院强激光材料重点实验室,上海 201800

² 中国科学院研究生院,北京 100049

引用该论文

李笑, 刘晓凤, 单永光, 赵元安, 邵建达, 范正修. 激光预处理ZrO₂-SiO₂ 1064 nm高反射膜的机理[J]. 光学学报, 2010, 30(8): 2284.

Li Xiao, Liu Xiaofeng, Shan Yongguang, Zhao Yuanan, Shao Jianda, Fan Zhengxiu. Mechanism of Laser-Conditioning ZrO₂-SiO₂ High Reflective Thin Film at 1064 nm[J]. Acta Optica Sinica, 2010, 30(8): 2284.

引用列表

1、高损伤阈值激光薄膜的制备方法应用光学, 2023, 44 (6): 1185

2、不同沉积温度下单纯蒸镀二氧化硅薄膜的光学特性研究光学学报, 2014, 34 (s2): 231001

3、激光预处理对HfO2薄膜损伤特性的影响光学学报, 2013, 33 (12): 1231001

李笑, 刘晓凤, 单永光, 赵元安, 邵建达, 范正修. 激光预处理ZrO₂-SiO₂ 1064 nm高反射膜的机理[J]. 光学学报, 2010, 30(8): 2284. Li Xiao, Liu Xiaofeng, Shan Yongguang, Zhao Yuanan, Shao Jianda, Fan Zhengxiu. Mechanism of Laser-Conditioning ZrO₂-SiO₂ High Reflective Thin Film at 1064 nm[J]. Acta Optica Sinica, 2010, 30(8): 2284.

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