光学学报, 2010, 30 (8): 2284, 网络出版: 2010-08-13
激光预处理ZrO2-SiO2 1064 nm高反射膜的机理
Mechanism of Laser-Conditioning ZrO2-SiO2 High Reflective Thin Film at 1064 nm
基本信息
DOI: | 10.3788/aos20103008.2284 |
中图分类号: | TN249;O484 |
栏目: | 激光器与激光光学 |
项目基金: | 国家863计划(2006AA804908)资助课题。 |
收稿日期: | 2009-09-20 |
修改稿日期: | 2009-10-30 |
网络出版日期: | 2010-08-13 |
通讯作者: | 李笑 (sanxiaoli@siom.ac.cn) |
备注: | -- |
李笑, 刘晓凤, 单永光, 赵元安, 邵建达, 范正修. 激光预处理ZrO2-SiO2 1064 nm高反射膜的机理[J]. 光学学报, 2010, 30(8): 2284. Li Xiao, Liu Xiaofeng, Shan Yongguang, Zhao Yuanan, Shao Jianda, Fan Zhengxiu. Mechanism of Laser-Conditioning ZrO2-SiO2 High Reflective Thin Film at 1064 nm[J]. Acta Optica Sinica, 2010, 30(8): 2284.