光学学报, 2010, 30 (8): 2284, 网络出版: 2010-08-13
激光预处理ZrO2-SiO2 1064 nm高反射膜的机理
Mechanism of Laser-Conditioning ZrO2-SiO2 High Reflective Thin Film at 1064 nm
激光技术 激光预处理 缺陷阈值 缺陷密度 预处理效果 laser technique laser-conditioning defects threshold defects density ZrO2-SiO2 ZrO2-SiO2 laser-conditioning effects
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