光学学报, 2010, 30 (8): 2284, 网络出版: 2010-08-13
激光预处理ZrO2-SiO2 1064 nm高反射膜的机理
Mechanism of Laser-Conditioning ZrO2-SiO2 High Reflective Thin Film at 1064 nm
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李笑, 刘晓凤, 单永光, 赵元安, 邵建达, 范正修. 激光预处理ZrO2-SiO2 1064 nm高反射膜的机理[J]. 光学学报, 2010, 30(8): 2284. Li Xiao, Liu Xiaofeng, Shan Yongguang, Zhao Yuanan, Shao Jianda, Fan Zhengxiu. Mechanism of Laser-Conditioning ZrO2-SiO2 High Reflective Thin Film at 1064 nm[J]. Acta Optica Sinica, 2010, 30(8): 2284.