红外与激光工程, 2019, 48 (1): 0105002, 网络出版: 2019-04-02
915 nm半导体激光器新型腔面钝化工艺
915 nm semiconductor laser new type facet passivation technology
基本信息
| DOI: | 10.3788/irla201948.0105002 |
| 中图分类号: | TN248 |
| 栏目: | 激光器技术 |
| 项目基金: | 国家自然科学基金(61306057) |
| 收稿日期: | 2018-08-11 |
| 修改稿日期: | -- |
| 网络出版日期: | 2019-04-02 |
| 通讯作者: | |
| 备注: | -- |
王鑫, 朱凌妮, 赵懿昊, 孔金霞, 王翠鸾, 熊聪, 马骁宇, 刘素平. 915 nm半导体激光器新型腔面钝化工艺[J]. 红外与激光工程, 2019, 48(1): 0105002. Wang Xin, Zhu Lingni, Zhao Yihao, Kong Jinxia, Wang Cuiluan, Xiong Cong, Ma Xiaoyu, Liu Suping. 915 nm semiconductor laser new type facet passivation technology[J]. Infrared and Laser Engineering, 2019, 48(1): 0105002.
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