915 nm半导体激光器新型腔面钝化工艺

王鑫; 朱凌妮; 赵懿昊; 孔金霞; 王翠鸾; 熊聪; 马骁宇; 刘素平

doi:doi:10.3788/irla201948.0105002

红外与激光工程, 2019, 48 (1): 0105002, 网络出版: 2019-04-02

915 nm半导体激光器新型腔面钝化工艺

915 nm semiconductor laser new type facet passivation technology

王鑫 ^1,2朱凌妮 ¹赵懿昊 ¹孔金霞 ¹王翠鸾 ¹熊聪 ¹马骁宇 ¹刘素平 ¹

作者单位

¹ 中国科学院半导体研究所, 北京 100083

² 中国科学院大学, 北京 100049

图 & 表

王鑫, 朱凌妮, 赵懿昊, 孔金霞, 王翠鸾, 熊聪, 马骁宇, 刘素平. 915 nm半导体激光器新型腔面钝化工艺[J]. 红外与激光工程, 2019, 48(1): 0105002. Wang Xin, Zhu Lingni, Zhao Yihao, Kong Jinxia, Wang Cuiluan, Xiong Cong, Ma Xiaoyu, Liu Suping. 915 nm semiconductor laser new type facet passivation technology[J]. Infrared and Laser Engineering, 2019, 48(1): 0105002.