光学学报, 2016, 36 (10): 1012002, 网络出版: 2016-10-12
基于Ptychography的极紫外光刻投影物镜波像差检测技术
Measurement of Wavefront Aberration of Extreme Ultraviolet Lithographic Projection Lens Based on Ptychography
基本信息
| DOI: | 10.3788/aos201636.1012002 |
| 中图分类号: | O436 |
| 栏目: | 仪器，测量与计量 |
| 项目基金: | 国家自然科学基金重点项目(61205102,61275207,61405210,61474129）、中国科学院青年创新促进会项目 |
| 收稿日期: | 2016-04-07 |
| 修改稿日期: | 2016-05-11 |
| 网络出版日期: | 2016-10-12 |
| 通讯作者: | 方伟 (fangwei20050200@163.com) |
| 备注: | -- |
方伟, 唐锋, 王向朝, 朱鹏辉, 李杰, 孟泽江, 张恒. 基于Ptychography的极紫外光刻投影物镜波像差检测技术[J]. 光学学报, 2016, 36(10): 1012002. Fang Wei, Tang Feng, Wang Xiangzhao, Zhu Penghui, Li Jie, Meng Zejiang, Zhang Heng. Measurement of Wavefront Aberration of Extreme Ultraviolet Lithographic Projection Lens Based on Ptychography[J]. Acta Optica Sinica, 2016, 36(10): 1012002.
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