基于Ptychography的极紫外光刻投影物镜波像差检测技术

方伟; 唐锋; 王向朝; 朱鹏辉; 李杰; 孟泽江; 张恒

doi:doi:10.3788/aos201636.1012002

光学学报, 2016, 36 (10): 1012002, 网络出版: 2016-10-12

基于Ptychography的极紫外光刻投影物镜波像差检测技术

Measurement of Wavefront Aberration of Extreme Ultraviolet Lithographic Projection Lens Based on Ptychography

方伟 ^1,2,*唐锋 ¹王向朝 ^1,2朱鹏辉 ^1,2李杰 ^1,2孟泽江 ^1,2张恒 ^1,2

作者单位

¹ 中国科学院上海光学精密机械研究所信息光学与光电技术实验室，上海 201800

² 中国科学院大学，北京 100049

补充材料

方伟, 唐锋, 王向朝, 朱鹏辉, 李杰, 孟泽江, 张恒. 基于Ptychography的极紫外光刻投影物镜波像差检测技术[J]. 光学学报, 2016, 36(10): 1012002. Fang Wei, Tang Feng, Wang Xiangzhao, Zhu Penghui, Li Jie, Meng Zejiang, Zhang Heng. Measurement of Wavefront Aberration of Extreme Ultraviolet Lithographic Projection Lens Based on Ptychography[J]. Acta Optica Sinica, 2016, 36(10): 1012002.