强激光与粒子束, 2013, 25 (9): 2275, 网络出版: 2013-08-28
基频HfO2/SiO2高反射薄膜激光损伤生长特性
Laser damage growth characteristics of HfO2/SiO2 high reflection film at 1064 nm
基本信息
| DOI: | 10.3788/hplpb20132509.2275 |
| 中图分类号: | O484.4 |
| 栏目: | ICF与激光等离子体 |
| 项目基金: | 国家自然科学基金项目（61008030）；上海市晨光计划项目（10CG19）；教育部博士点基金项目（20100072120037） |
| 收稿日期: | 2012-11-17 |
| 修改稿日期: | 2013-03-26 |
| 网络出版日期: | 2013-08-28 |
| 通讯作者: | 张艳云 (zhangyanyun199001@126.com) |
| 备注: | -- |
张艳云, 马彬, 马宏平, 焦宏飞, 程鑫彬. 基频HfO2/SiO2高反射薄膜激光损伤生长特性[J]. 强激光与粒子束, 2013, 25(9): 2275. Zhang Yanyun, Ma Bin, Ma Hongping, Jiao Hongfei, Cheng Xinbin. Laser damage growth characteristics of HfO2/SiO2 high reflection film at 1064 nm[J]. High Power Laser and Particle Beams, 2013, 25(9): 2275.
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