基频HfO<sub>2</sub>/SiO<sub>2</sub>高反射薄膜激光损伤生长特性

张艳云; 马彬; 马宏平; 焦宏飞; 程鑫彬

doi:doi:10.3788/hplpb20132509.2275

强激光与粒子束, 2013, 25 (9): 2275, 网络出版: 2013-08-28

基频HfO₂/SiO₂高反射薄膜激光损伤生长特性

Laser damage growth characteristics of HfO₂/SiO₂ high reflection film at 1064 nm

张艳云 ^1,2,*马彬 ^1,2马宏平 ^1,2焦宏飞 ^1,2程鑫彬 ^1,2

作者单位

¹ 同济大学精密光学工程技术研究所，上海 200092

² 先进微结构材料教育部重点实验室，上海 200092

补充材料

张艳云, 马彬, 马宏平, 焦宏飞, 程鑫彬. 基频HfO₂/SiO₂高反射薄膜激光损伤生长特性[J]. 强激光与粒子束, 2013, 25(9): 2275. Zhang Yanyun, Ma Bin, Ma Hongping, Jiao Hongfei, Cheng Xinbin. Laser damage growth characteristics of HfO₂/SiO₂ high reflection film at 1064 nm[J]. High Power Laser and Particle Beams, 2013, 25(9): 2275.