基于改进型结构分解的极紫外光刻掩模衍射谱快速仿真方法

张恒; 李思坤; 王向朝

doi:doi:10.3788/aos201838.0105001

光学学报, 2018, 38 (1): 0105001, 网络出版: 2018-01-22

基于改进型结构分解的极紫外光刻掩模衍射谱快速仿真方法

A Rapid Simulation Method for Diffraction Spectra of EUV Lithography Mask Based on Improved Structural Decomposition

张恒 ^1,2,*李思坤 ^1,2王向朝 ^1,2

作者单位

¹ 中国科学院上海光学精密机械研究所信息光学与光电技术实验室, 上海 201800

² 中国科学院大学, 北京 100049

引用该论文

张恒, 李思坤, 王向朝. 基于改进型结构分解的极紫外光刻掩模衍射谱快速仿真方法[J]. 光学学报, 2018, 38(1): 0105001.

Zhang Heng, Li Sikun, Wang Xiangzhao. A Rapid Simulation Method for Diffraction Spectra of EUV Lithography Mask Based on Improved Structural Decomposition[J]. Acta Optica Sinica, 2018, 38(1): 0105001.

引用列表

1、衍射光学元件设计方法综述光学学报, 2023, 43 (8): 0822007

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张恒, 李思坤, 王向朝. 基于改进型结构分解的极紫外光刻掩模衍射谱快速仿真方法[J]. 光学学报, 2018, 38(1): 0105001. Zhang Heng, Li Sikun, Wang Xiangzhao. A Rapid Simulation Method for Diffraction Spectra of EUV Lithography Mask Based on Improved Structural Decomposition[J]. Acta Optica Sinica, 2018, 38(1): 0105001.

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