光学学报, 2018, 38 (1): 0105001, 网络出版: 2018-01-22
基于改进型结构分解的极紫外光刻掩模衍射谱快速仿真方法
A Rapid Simulation Method for Diffraction Spectra of EUV Lithography Mask Based on Improved Structural Decomposition
基本信息
| DOI: | 10.3788/aos201838.0105001 |
| 中图分类号: | O436 |
| 栏目: | 衍射与光栅 |
| 项目基金: | 国家自然科学基金(61474129)、上海市自然科学基金资助项目(17ZR1434100) |
| 收稿日期: | 2017-06-28 |
| 修改稿日期: | 2017-08-20 |
| 网络出版日期: | 2018-01-22 |
| 通讯作者: | 张恒 (zhangheng@siom.ac.cn) |
| 备注: | -- |
张恒, 李思坤, 王向朝. 基于改进型结构分解的极紫外光刻掩模衍射谱快速仿真方法[J]. 光学学报, 2018, 38(1): 0105001. Zhang Heng, Li Sikun, Wang Xiangzhao. A Rapid Simulation Method for Diffraction Spectra of EUV Lithography Mask Based on Improved Structural Decomposition[J]. Acta Optica Sinica, 2018, 38(1): 0105001.
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