光学学报, 2018, 38 (1): 0105001, 网络出版: 2018-01-22
基于改进型结构分解的极紫外光刻掩模衍射谱快速仿真方法
A Rapid Simulation Method for Diffraction Spectra of EUV Lithography Mask Based on Improved Structural Decomposition
衍射 极紫外光刻 掩模衍射谱仿真 结构分解法 掩模优化 缺陷补偿 diffraction extreme-ultraviolet lithography mask diffraction simulation structure decomposition mask optimization defect compensation
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