强激光与粒子束, 2008, 20 (4): 683, 网络出版: 2008-08-17   

电子回旋共振微波等离子体刻蚀α:CH薄膜的工艺

Etching α:CH films by electron cyclotron resonance microwave plasma
作者单位
1 中国工程物理研究院,激光聚变研究中心,四川,绵阳,621900
2 四川大学,原子与分子研究所,成都,610065
3 四川大学,物理科学与工程学院,成都,610065
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