强激光与粒子束, 2008, 20 (4): 683, 网络出版: 2008-08-17
电子回旋共振微波等离子体刻蚀α:CH薄膜的工艺
Etching α:CH films by electron cyclotron resonance microwave plasma
图 & 表
陆晓曼, 张继成, 吴卫东, 朱永红, 郭强, 唐永建, 孙卫国. 电子回旋共振微波等离子体刻蚀α:CH薄膜的工艺[J]. 强激光与粒子束, 2008, 20(4): 683. 陆晓曼, 张继成, 吴卫东, 朱永红, 郭强, 唐永建, 孙卫国. Etching α:CH films by electron cyclotron resonance microwave plasma[J]. High Power Laser and Particle Beams, 2008, 20(4): 683.