光学 精密工程, 2019, 27 (1): 129, 网络出版: 2019-04-06
无基膜高深宽比双面集成微结构元件的制作
Fabrication of two-sided integrated microstructure element with high aspect ratio and without film substrate
基本信息
| DOI: | 10.3788/ope.20192701.0129 |
| 中图分类号: | O439 |
| 栏目: | 微纳技术与精密机械 |
| 项目基金: | 国 家 自 然 科 学 基 金 资 助 项 目 (No.61275167)、深 圳 市 知 识 创 新 计 划 重 点 资 助 项 目 (No.JCYJ2014041809573591，No.JCYJ20130329103020637) |
| 收稿日期: | 2018-06-26 |
| 修改稿日期: | 2018-08-17 |
| 网络出版日期: | 2019-04-06 |
| 通讯作者: | |
| 备注: | -- |
徐平, 黄燕燕, 张旭琳, 杨伟, 彭文达. 无基膜高深宽比双面集成微结构元件的制作[J]. 光学 精密工程, 2019, 27(1): 129. XU Ping, HUANG Yan-yan, ZHANG Xu-lin, YANG Wei, PENG Wen-da. Fabrication of two-sided integrated microstructure element with high aspect ratio and without film substrate[J]. Optics and Precision Engineering, 2019, 27(1): 129.
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