光学学报, 2005, 25 (1): 126, 网络出版: 2006-05-22
沉积参量及时效时间对SiO2薄膜残余应力的影响
Influences of the Deposition Parameters and Aging Time on the Residual Stress of SiO2 Films
基本信息
| DOI: | -- |
| 中图分类号: | O484.4 |
| 栏目: | 薄膜 |
| 项目基金: | -- |
| 收稿日期: | 2004-02-02 |
| 修改稿日期: | 2004-02-02 |
| 网络出版日期: | 2006-05-22 |
| 通讯作者: | 邵淑英 (shaoshuying@mail.siom.ac.cn) |
| 备注: | -- |
邵淑英, 田光磊, 范正修, 邵建达. 沉积参量及时效时间对SiO2薄膜残余应力的影响[J]. 光学学报, 2005, 25(1): 126. 邵淑英, 田光磊, 范正修, 邵建达. Influences of the Deposition Parameters and Aging Time on the Residual Stress of SiO2 Films[J]. Acta Optica Sinica, 2005, 25(1): 126.
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