光子学报, 2019, 48 (1): 0131002, 网络出版: 2019-01-27   

基于离子束溅射大口径光学元件平坦化层均匀性研究

Study on Planarization Layer Uniformity of Large-aperture Optical Elements Based on Ion Beam Sputtering
作者单位
1 长春理工大学 光电工程学院, 长春 130022
2 中国兵器科学研究院宁波分院, 浙江 宁波 315103
3 长春理工大学 电子信息工程学院, 长春 130022
引用该论文

冯时, 付秀华, 王大森, 李晓静, 聂凤明, 张旭. 基于离子束溅射大口径光学元件平坦化层均匀性研究[J]. 光子学报, 2019, 48(1): 0131002.

FENG Shi, FU Xiu-hua, WANG Da-sen, LI Xiao-jing, NIE Feng-ming, ZHANG Xu. Study on Planarization Layer Uniformity of Large-aperture Optical Elements Based on Ion Beam Sputtering[J]. ACTA PHOTONICA SINICA, 2019, 48(1): 0131002.

引用列表

冯时, 付秀华, 王大森, 李晓静, 聂凤明, 张旭. 基于离子束溅射大口径光学元件平坦化层均匀性研究[J]. 光子学报, 2019, 48(1): 0131002. FENG Shi, FU Xiu-hua, WANG Da-sen, LI Xiao-jing, NIE Feng-ming, ZHANG Xu. Study on Planarization Layer Uniformity of Large-aperture Optical Elements Based on Ion Beam Sputtering[J]. ACTA PHOTONICA SINICA, 2019, 48(1): 0131002.

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