光子学报, 2015, 44 (10): 1011003, 网络出版: 2015-11-30   

入射光束角度及强度偏差对多光束干涉光刻结果的影响

Influence on Patterns Quality of Multi-beam Interference Lithography Caused by the Deviations of Incidence Azimuth Angle and Intensity of Light
作者单位
西安工业大学 光电工程学院,西安 710021
引用该论文

马丽娜, 张锦, 蒋世磊, 孙国斌, 杨国锋, 杭凌侠, 弥谦, 计玮. 入射光束角度及强度偏差对多光束干涉光刻结果的影响[J]. 光子学报, 2015, 44(10): 1011003.

MA Li-na, ZHANG Jin, JIANG Shi-lei, SUN Guo-bin, YANG Guo-feng, HANG Ling-xia, MI Qian, JI Wei. Influence on Patterns Quality of Multi-beam Interference Lithography Caused by the Deviations of Incidence Azimuth Angle and Intensity of Light[J]. ACTA PHOTONICA SINICA, 2015, 44(10): 1011003.

引用列表
1、 基于非对称入射和偏振调制的四光束干涉光场激光与光电子学进展, 2020, 57 (19): 192602
2、 干涉偏差对四束圆偏振光干涉的影响激光与光电子学进展, 2018, 55 (6): 061405
3、 干涉条纹相位锁定系统分析及其控制光子学报, 2017, 46 (1): 123001

马丽娜, 张锦, 蒋世磊, 孙国斌, 杨国锋, 杭凌侠, 弥谦, 计玮. 入射光束角度及强度偏差对多光束干涉光刻结果的影响[J]. 光子学报, 2015, 44(10): 1011003. MA Li-na, ZHANG Jin, JIANG Shi-lei, SUN Guo-bin, YANG Guo-feng, HANG Ling-xia, MI Qian, JI Wei. Influence on Patterns Quality of Multi-beam Interference Lithography Caused by the Deviations of Incidence Azimuth Angle and Intensity of Light[J]. ACTA PHOTONICA SINICA, 2015, 44(10): 1011003.

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