光子学报, 2015, 44 (10): 1011003, 网络出版: 2015-11-30
入射光束角度及强度偏差对多光束干涉光刻结果的影响
Influence on Patterns Quality of Multi-beam Interference Lithography Caused by the Deviations of Incidence Azimuth Angle and Intensity of Light
基本信息
| DOI: | 10.3788/gzxb20154410.1011003 |
| 中图分类号: | TN305.7;TN241 |
| 栏目: | |
| 项目基金: | 陕西省教育厅重点实验室科研计划（No.13JS038）、陕西省科技厅重点实验室项目（No.2013SZS14-P01）、广东省科技厅高新区发展引导专项（No.2011B010700101）和西安工业大学校长科研基金（No.XAGDXJJ1303）资助 |
| 收稿日期: | 2015-04-27 |
| 修改稿日期: | 2015-08-17 |
| 网络出版日期: | 2015-11-30 |
| 通讯作者: | 马丽娜 (mln_dwcy@163.com) |
| 备注: | -- |
马丽娜, 张锦, 蒋世磊, 孙国斌, 杨国锋, 杭凌侠, 弥谦, 计玮. 入射光束角度及强度偏差对多光束干涉光刻结果的影响[J]. 光子学报, 2015, 44(10): 1011003. MA Li-na, ZHANG Jin, JIANG Shi-lei, SUN Guo-bin, YANG Guo-feng, HANG Ling-xia, MI Qian, JI Wei. Influence on Patterns Quality of Multi-beam Interference Lithography Caused by the Deviations of Incidence Azimuth Angle and Intensity of Light[J]. ACTA PHOTONICA SINICA, 2015, 44(10): 1011003.
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