16 nm极紫外光刻物镜热变形对成像性能影响的研究

李艳秋; 刘岩; 刘丽辉

doi:doi:10.3788/AOS201939.0122001

光学学报, 2019, 39 (1): 0122001, 网络出版: 2019-05-10

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Effect of Thermal Deformation on Imaging Performance for 16 nm Extreme Ultraviolet Lithography Objective

李艳秋 ^1,*刘岩 ²刘丽辉 ¹

作者单位

¹ 北京理工大学光电学院光电成像技术与系统教育部重点实验室, 北京 100081

² 北京航天计量测试技术研究所, 北京 100076

引用该论文

李艳秋, 刘岩, 刘丽辉. 16 nm极紫外光刻物镜热变形对成像性能影响的研究[J]. 光学学报, 2019, 39(1): 0122001.

Yanqiu Li, Yan Liu, Lihui Liu. Effect of Thermal Deformation on Imaging Performance for 16 nm Extreme Ultraviolet Lithography Objective[J]. Acta Optica Sinica, 2019, 39(1): 0122001.

引用列表

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3、增强型相位光栅衍射效率研究光学学报, 2021, 41 (12): 1205001

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李艳秋, 刘岩, 刘丽辉. 16 nm极紫外光刻物镜热变形对成像性能影响的研究[J]. 光学学报, 2019, 39(1): 0122001. Yanqiu Li, Yan Liu, Lihui Liu. Effect of Thermal Deformation on Imaging Performance for 16 nm Extreme Ultraviolet Lithography Objective[J]. Acta Optica Sinica, 2019, 39(1): 0122001.

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