光学学报, 2019, 39 (1): 0122001, 网络出版: 2019-05-10
16 nm极紫外光刻物镜热变形对成像性能影响的研究 
下载： 1349次
Effect of Thermal Deformation on Imaging Performance for 16 nm Extreme Ultraviolet Lithography Objective
光学设计 热变形 极紫外光刻 有限元分析 反射系统 成像性能 optical design thermal deformation extreme ultraviolet lithography finite element analysis catoptric system imaging performance
知识挖掘
相关论文
2024年
2022年
2017年
2017年
2017年
2015年
2015年
2015年
2014年
2013年
本文相似领域研究进展，
知识服务
本文主要研究领域论文发表情况：
2235篇
2091篇
550篇
84篇
57篇
17篇
8篇
本文研究领域论文发表情况（统计图）：
李艳秋, 刘岩, 刘丽辉. 16 nm极紫外光刻物镜热变形对成像性能影响的研究[J]. 光学学报, 2019, 39(1): 0122001. Yanqiu Li, Yan Liu, Lihui Liu. Effect of Thermal Deformation on Imaging Performance for 16 nm Extreme Ultraviolet Lithography Objective[J]. Acta Optica Sinica, 2019, 39(1): 0122001.
PDF全文
