激光与光电子学进展, 2018, 55 (9): 093101, 网络出版: 2018-09-08
基底温度和离子源能量对薄膜应力的影响 
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Effects of Substrate Temperature and Ion Source Energy on Stress of Thin Film
基本信息
| DOI: | 10.3788/lop55.093101 |
| 中图分类号: | TB43 |
| 栏目: | 薄膜 |
| 项目基金: | 2017年科技创新服务能力建设-科研基地建设-重点实验室-光电子技术教育部重点实验室(市级)项目(PXM2017_014204_500034) |
| 收稿日期: | 2018-03-05 |
| 修改稿日期: | 2018-04-06 |
| 网络出版日期: | 2018-09-08 |
| 通讯作者: | |
| 备注: | -- |
郝帅, 崔碧峰, 房天啸, 王阳. 基底温度和离子源能量对薄膜应力的影响[J]. 激光与光电子学进展, 2018, 55(9): 093101. Hao Shuai, Cui Bifeng, Fang Tianxiao, Wang Yang. Effects of Substrate Temperature and Ion Source Energy on Stress of Thin Film[J]. Laser & Optoelectronics Progress, 2018, 55(9): 093101.
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