基底温度和离子源能量对薄膜应力的影响

郝帅; 崔碧峰; 房天啸; 王阳

doi:doi:10.3788/lop55.093101

激光与光电子学进展, 2018, 55 (9): 093101, 网络出版: 2018-09-08

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Effects of Substrate Temperature and Ion Source Energy on Stress of Thin Film

郝帅崔碧峰房天啸王阳

作者单位

北京工业大学信息学部光电子技术省部共建教育部重点实验室, 北京 100124

图 & 表

郝帅, 崔碧峰, 房天啸, 王阳. 基底温度和离子源能量对薄膜应力的影响[J]. 激光与光电子学进展, 2018, 55(9): 093101. Hao Shuai, Cui Bifeng, Fang Tianxiao, Wang Yang. Effects of Substrate Temperature and Ion Source Energy on Stress of Thin Film[J]. Laser & Optoelectronics Progress, 2018, 55(9): 093101.