白光干涉测量超薄透明电极ITO薄膜的厚度

陈凯; 雷枫; 伊藤雅英

doi:doi:10.3788/co.20150804.0567

中国光学, 2015, 8 (4): 567, 网络出版: 2016-01-25

白光干涉测量超薄透明电极ITO薄膜的厚度

Measurement of ITO transparent electrode film thickness with white-light interferometer

陈凯雷枫伊藤雅英 ^*

作者单位

筑波大学数理物质科学研究科伊藤研究室, 日本筑波 3050005

引用该论文

陈凯, 雷枫, 伊藤雅英. 白光干涉测量超薄透明电极ITO薄膜的厚度[J]. 中国光学, 2015, 8(4): 567.

CHEN Kai, LEI Feng, ITOH Masahide. Measurement of ITO transparent electrode film thickness with white-light interferometer[J]. Chinese Optics, 2015, 8(4): 567.

引用列表

1、激光诱导薄膜内部的温度场分布光学与光电技术, 2018, 16 (1): 32

2、 Si衬底表面圆柱形抗反射周期微结构的设计及制作红外与激光工程, 2016, 45 (6): 622002

陈凯, 雷枫, 伊藤雅英. 白光干涉测量超薄透明电极ITO薄膜的厚度[J]. 中国光学, 2015, 8(4): 567. CHEN Kai, LEI Feng, ITOH Masahide. Measurement of ITO transparent electrode film thickness with white-light interferometer[J]. Chinese Optics, 2015, 8(4): 567.

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