光学学报, 2015, 35 (6): 0622005, 网络出版: 2015-05-20
基于等效膜层法的极紫外光刻含缺陷掩模多层膜仿真模型
Simulation Model Based on Equivalent Layer Method for Defective Mask Multilayer in Extremeultra violet Lithography
基本信息
| DOI: | 10.3788/aos201535.0622005 |
| 中图分类号: | O436 |
| 栏目: | 光学设计与制造 |
| 项目基金: | 国家自然科学基金(61474129、61275207、61205102)、科技部国际科技合作专项项目(2011DFR10010) |
| 收稿日期: | 2014-12-31 |
| 修改稿日期: | 2015-03-09 |
| 网络出版日期: | 2015-05-20 |
| 通讯作者: | 刘晓雷 (liuxl@siom.ac.cn) |
| 备注: | -- |
刘晓雷, 李思坤, 王向朝. 基于等效膜层法的极紫外光刻含缺陷掩模多层膜仿真模型[J]. 光学学报, 2015, 35(6): 0622005. Liu Xiaolei, Li Sikun, Wang Xiangzhao. Simulation Model Based on Equivalent Layer Method for Defective Mask Multilayer in Extremeultra violet Lithography[J]. Acta Optica Sinica, 2015, 35(6): 0622005.
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