光学学报, 2015, 35 (6): 0622005, 网络出版: 2015-05-20
基于等效膜层法的极紫外光刻含缺陷掩模多层膜仿真模型
Simulation Model Based on Equivalent Layer Method for Defective Mask Multilayer in Extremeultra violet Lithography
光学设计 极紫外光刻 衍射 含缺陷多层膜 等效膜层法 改进单平面近似 optical design EUV lithography diffraction defective multilayer equivalent layer method advanced SSA
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